ASM International N.V. heeft twee nieuwe geavanceerde deposit systemen gelanceerd voor epitaxy, PEALD en PECVD. Deze systemen bieden optimale procesprestaties voor 300 mm hoge volumefabricage. De Intrepid(TM) XP is een van deze systemen, ontworpen voor het verlagen van energieverbruik in CMOS-transistors.
Op 10 juli 2012 heeft ASM International N.V. twee innovatieve deposit systemen geïntroduceerd, gericht op het verbeteren van de procesprestaties binnen de industrie. De systemen zijn speciaal ontwikkeld voor epitaxy, plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) en plasma enhanced chemical vapor d...
Krijg direct toegang tot alle AI-samenvattingen en features. Nu 50% korting op de eerste maand. Blijf op de hoogte van nieuwe ontwikkelingen met AI alerts en chat onbeperkt.
Deze samenvattingen zijn automatisch gegenereerd door AI. Controleer altijd de originele tekst voor de meest accurate informatie. Fouten gevonden? Neem contact op .
Resultaat uit register openbaarmaking voorwetenschap
//www.afm.nl/nl-nl/sector/registers/meldingenregisters/openbaarmaking-voorwetenschap/details?id=201207100000000032
Afm.nl
Als BeleidsRadar gebruiker krijg je toegang tot vergelijkbare documenten die relevant zijn voor dit beleidsstuk. Nu 50% korting op de eerste maand.