WebPage25 februari 2026

Resultaat uit register openbaarmaking voorwetenschap

Afmberichten

Korte AI Samenvatting

ASM International en Hitachi Kokusai hebben een licentieovereenkomst ondertekend voor Atomic Layer Deposition (ALD) technologie. ASM verleent Hitachi Kokusai het recht om ALD-patenten te gebruiken in batchverwerking. Deze samenwerking benadrukt het belang van innovatie in de halfgeleiderindustrie.

Uitgebreide AI Samenvatting

Op 27 november 2007 kondigen ASM International N.V. en Hitachi Kokusai Electric Inc. aan dat zij een licentieovereenkomst hebben ondertekend voor de Atomic Layer Deposition (ALD) technologie. In deze overeenkomst verleent ASM Hitachi Kokusai het recht om gebruik te maken van zijn ALD-patenten, speci...

Ontdek de volledige samenvatting

Krijg direct toegang tot alle AI-samenvattingen en features. Nu 50% korting op de eerste maand. Blijf op de hoogte van nieuwe ontwikkelingen met AI alerts en chat onbeperkt.

Deze samenvattingen zijn automatisch gegenereerd door AI. Controleer altijd de originele tekst voor de meest accurate informatie. Fouten gevonden? Neem contact op .

Originele Tekst

Web pagina bron informatie

Document Informatie

Originele titel:

Resultaat uit register openbaarmaking voorwetenschap

Originele document ID:

//www.afm.nl/nl-nl/sector/registers/meldingenregisters/openbaarmaking-voorwetenschap/details?id=200711270000000024

Bron Systeem:

Afm.nl

Vergelijkbare Documenten van web:afmberichten

25 januari 2026 - 25 maart 2026

Ontdek vergelijkbare documenten

Als BeleidsRadar gebruiker krijg je toegang tot vergelijkbare documenten die relevant zijn voor dit beleidsstuk. Nu 50% korting op de eerste maand.